真空镀膜机

本司拥有电子束及阻蒸蒸发加工设备，能对Ti、Cr、Al、Ni、Ag、Au、Pt、Cu等金属进行薄膜制备，最大可制备12英寸晶圆。设备均为进口先进设备，膜厚仪精准，膜层均匀性高，膜层致密，成膜效果好。

磁控溅射台

本司拥有多台多样式磁控溅射台，可实现自转镀膜、自公转镀膜、连续镀膜、正放置镀膜及倒放置镀膜等多种镀膜方式。靶类齐全能实现Ti、AL、Ni、Au、Ag、Cr、Pt、Cu、TiW、Pd、Pt、Zn、Mo、W、Ta、Si、Sic、NiCr20等20余种金属、非金属及合金薄膜，TaN、TiN等复合材料镀膜加工。最大可制备12英寸晶圆。

光学镀膜机

本司拥有一批成熟光学工程师及大量光学仿真数据，可实现光学增透膜、高反膜ITO、截止膜、滤光片等光学薄膜蒸镀。膜层光学性能好，数据调整迅速准确。可定制多波段多类型光学膜，衬底多样齐全。

镀膜材料及支持的设备

本司有各类电子束真空镀膜，磁控溅射台，连续镀等PVD镀膜工艺，支持12英寸以内晶圆或大规格非标衬底。