本司拥有电子束及阻蒸蒸发加工设备，能对Ti、Cr、Al、Ni、Ag、Au、Pt、Cu等金属进行薄膜制备，最大可制备12英寸晶圆。设备均为进口先进设备，膜厚仪精准，膜层均匀性高，膜层致密，成膜效果好。
用途：电子東或阻蒸蒸发TiA1、Ni、Ag、Au等金属薄膜最大可制备12英寸晶圆
技术指标：
蒸发速率0.1A/s-20A/s;
预蒸发功率10%-45%;
蒸发功率0-50%;
蒸发厚度:普通金属(Ni、Al、Ti、Ag)1nm-5000nm;
工作真空:2E-5Pa;
温度:300℃;
薄膜不均匀性≤5%
联系人: 喻女士
咨询热线：15539701757（微信同号）
邮箱: memsweina@163.com
地址: 河南省洛阳市西工区智能科技产业园6号楼
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