单面/双面镀金硅片

膜层参数：Cr30nm/Au100nm（可定制） 衬底类型：硅片/玻璃片/石英片/蓝宝石片 衬底规格：2/4/6/8/12寸(尺寸规格厚度可定制) 膜层粗糙度：Ra≤1nm 膜层纯度：≥99.999% 镀膜工艺：电子束蒸发/磁控溅射

单面/双面镀铜硅片

膜层参数：Ti30nm/Cu500nm (可定制) 衬底类型：硅片/玻璃片/石英片/蓝宝石片 衬底规格：2/4/6/8/12寸 (尺寸规格厚度可定制) 膜层粗糙度：Ra≤lnm 膜层纯度：≥99.999% 镀膜工艺：电子束蒸发/磁控溅射

单面/双面镀铝硅片

膜层参数：Ti30nm/A1 100nm;A1 100nm (可定制) 衬底类型：硅片/玻璃片/石英片/蓝宝石片 衬底厚度：2/4/6/8/12寸（尺寸规格厚度可定制） 膜层粗糙度：Ra≤lnm 膜层纯度：≥99.999% 镀膜工艺：电子束蒸发/磁控溅射

单面/双面镀铂硅片

膜层参数：Ti30nm/Pt100nm (可定制) 衬底类型：硅片/玻璃片/石英片/蓝宝石片 衬底规格：2/4/6/8/12寸 （尺寸规格厚度可定制） 膜层粗糙度：Ra≤lnm 膜层纯度：≥99.999% 镀膜工艺：电子束蒸发/磁控溅射

单面/双面镀银硅片

膜层参数：Ti30nm/Ag500nm (可定制) 衬底类型：硅片/玻璃片/石英片/蓝宝石片 衬底规格：2/4/6/8/12寸 (尺寸规格厚度可定制) 膜层粗糙度：Ra≤lnm 膜层纯度：≥99.999% 镀膜工艺：电子束蒸发/磁控溅射

单面/双面镀Ni硅片

膜层参数：Ti30nm/A1 100nm;A1 100nm (可定制) 衬底类型：硅片/玻璃片/石英片/蓝宝石片 衬底厚度：2/4/6/8/12寸 （尺寸规格厚度可定制） 膜层粗糙度：Ra≤lnm 膜层纯度：≥99.999% 镀膜工艺：电子束蒸发/磁控溅射