光刻系统
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电子束曝光

电子束曝光

本司拥有尼康步进光刻机,主要针对8英寸以上晶圆加工。电子束曝光是利用电子束在涂有感光胶的晶片上直接描画或投影复印图形的技术,它的特点是分辨率高、图形产生与修改容易、制作周期短。扫描曝光和投影曝光两大类,其中扫描曝光系统是电子束在工件面上扫描直接产生图形,分辨率高,生产率低。投影曝光系统实为电子束图形复印系统,它将掩模图形产生的电子像按原尺寸或缩小后复印到工件上,因此不仅保持了高分辨率,而且提高了生产率。

接触式光刻机

接触式光刻机

本司拥有SUSS MA6接触式光刻机,主要针对6英寸及6英寸以下晶圆加工。拥有硬接触,软接触,真空接触等多种光刻模式。拥有G/I线双线加工能力。能实现双面对准与键合对准。

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