本司拥有尼康步进光刻机，主要针对8英寸以上晶圆加工。电子束曝光是利用电子束在涂有感光胶的晶片上直接描画或投影复印图形的技术，它的特点是分辨率高、图形产生与修改容易、制作周期短。扫描曝光和投影曝光两大类，其中扫描曝光系统是电子束在工件面上扫描直接产生图形，分辨率高，生产率低。投影曝光系统实为电子束图形复印系统，它将掩模图形产生的电子像按原尺寸或缩小后复印到工件上，因此不仅保持了高分辨率，而且提高了生产率。
用途：
利用某些高分子聚合物对电子敏感而形成曝光图形的，与光学曝光对应，其特点是将聚焦电子束代替光照以实现抗蚀剂(光刻胶)的曝光(改性)。
技术指标:
在实验室广泛应用的电子東曝光机为矢量扫描高斯型系统，即:电子束斑为高斯线型，工作时采用矢量扫描方式电子束曝光无需掩膜，可实现低至10nm线宽图形，是目前纳米技术研究中非常重要的纳米图形生成手段。
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