光刻系统
首页 - MEMS加工 - 光刻系统 - 接触式光刻机
接触式光刻机
接触式光刻机
接触式光刻机
接触式光刻机
接触式光刻机

本司拥有SUSS MA6接触式光刻机,主要针对6英寸及6英寸以下晶圆加工。拥有硬接触,软接触,真空接触等多种光刻模式。拥有G/I线双线加工能力。能实现双面对准与键合对准。

服务电话: 15539701757
产品详情

本司拥有SUSS   MA6接触式光刻机,主要针对6英寸及6英寸以下晶圆加工。拥有硬接触,软接触,真空接触等多种光刻模式。拥有G/I线双线加工能力。能实现双面对准与键合对准。

用途:宽带光源365-420;紫外接近;接触式光刻;可实现双面对准与键合对准。

技术指标:

分辨率:大于或等于1um;

对准精度:大于士1um;

光刻胶类型:

1、AZ5214(厚度1.6~2.5um,可反转);

2、AZ1500(1.2~2.0um,正胶);

3、AZ4620(度厚6~15um);

4、AZ6130(厚度3~6um)。

在线订购
河南微纳半导体有限责任公司

联系人: 喻女士

咨询热线:15539701757(微信同号)

邮箱: memsweina@163.com

地址: 河南省洛阳市西工区智能科技产业园6号楼

微信二维码

微信二维码

淘宝店铺

淘宝店铺

京东店铺

京东店铺

版权所有:2024 © 河南微纳半导体有限责任公司 豫ICP备2024065003号-1 豫公网安备41030302000802号 技术支持:尚贤科技 网站XML

首页

电话

联系

置顶