光刻胶/显影液-河南微纳半导体有限责任公司

显影液

显影液 (1)高纯度有机碱性 MIF 显影液 (2)无机碱性水性显影液

了解详情立即咨询

SU-8系列产品

高纵横比成像单涂层中0.5至>20μm膜厚度提高吞吐量更快地干燥

了解详情立即咨询

FUTURREX系列产品

在抗蚀剂显影过程中形成抗蚀剂底切厚度范国：0.7-25.0μm 根据曝光能量轻松调整抗蚀剂底切程度对小于380nm的波长的灵敏度

了解详情立即咨询

AZ系列产品

光刻胶，又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体材料。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成，能够通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，使其溶解度发生变化，从而在光刻工艺中用作抗腐蚀涂层材料。光刻胶在微电子制造、纳米技术等高精尖领域中占据着至关重要的位置，主要应用于集成电路、平板显示器和半导体分离器件的制造等。

了解详情立即咨询