光刻胶/显影液
AZ系列产品
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光刻胶,又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体材料。它主要由感光树脂、增感剂和溶剂等成分组成,能够通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,使其溶解度发生变化,从而在光刻工艺中用作抗腐蚀涂层材料。光刻胶在微电子制造、纳米技术等高精尖领域中占据着至关重要的位置,主要应用于集成电路、平板显示器和半导体分离器件的制造等。

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产品详情
G线T线G线线通用光利胶系列
AZ1500系列 高感光度标准G线正型光刻胶 High Sensitivity Standard g-line Positive-tone Photoresist
AZ6100系列 高感光度高耐热性G线正型光刻胶 High Sensitivity High Heat Stability g-line Positive-tone Photoresist
AZ3100系列 高感光度高附着性G线线通用正型光刺胶 High Sensitivity High Adhesion ghi Cross-over Positive-tone Photoresist
AZ GXR600系列 高感光度高附着性G线划线通用正型光刻胶 High Sensitivity High Adhesion g/i Cross-over Positive-tone Photoresist
AZ5200E系列 应用于价-c工艺图形反转正☑负可转换线光刻胶 Image Reversal Pattern PosiNega Convertible Photoresist
AZ MIR700系列 高感光度中解像度线正型光刻胶 Medium-High Resolution i-line Positive-tone Photoressst
AZMR900系列 厚职高感光度高解像度线正型光刻胶 Tackc-fil High Reolion i-ine Poutive-tone Photorevs for High-dove Iplartanon Proces
DUV光刻胶系列
AZDX3200P系列 应用干通孔图形的KF正型光刻胶 KrF Excimer Laser Positve-tone Photoresist for Contact Hole
AZDX5200P系列 应用于沟槽及通孔围形的超高分辨率KrF正型光刻胶 KrF Excimer Laver Positive-tone Photoresist for Contace Hole and Trench
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