光刻胶/显影液
显影液
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显影液

(1)高纯度有机碱性 MIF 显影液

(2)无机碱性水性显影液

服务电话: 15539701757
产品详情
概要及特性

1)高纯度有机碱性 MIF 显影液

 AZ 300MIF显影液

     无表面活性剂的标准显影液(TMAH2.38%)适用于各种显影工艺如 Puddle , Dip 等无表面活性剂使 Spray 显影成为可能
AZ 600MIF显影液
    含表面活性剂的标准显影液(TMAH2.38%)
    有效去除显影后及高对比度微细图形加工后的微小残留
2)无机碱性水性显影液
 AZ 显影液
    通用正型光刻胶显影液
    由于含有金属离子,它不是为半导体工业而优化。
 AZ 400K显影液
    用于厚膜正型光刻胶的专用显影液
    有效抑止光刻胶表面的显影损失现象
 AZ 303N显影液
    AZ PLP 系列光刻胶和 AZ 8100系列光刻胶的专用显影液
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河南微纳半导体有限责任公司

联系人: 喻女士

咨询热线:15539701757(微信同号)

邮箱: memsweina@163.com

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