真空镀膜系统
空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。
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光刻系统
光刻系统特点主要包括：高精度投影技术，能够实现微纳米级的图像精度，确保图案边缘平直、整体均匀一致；采用多种光源类型（如紫外光、X射线、电子束等），以满足不同工艺需求；结合高精度控制系统，实现高分辨率、高对准精度的图案投影；以及具备高生产效率。
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干法刻蚀
干法刻蚀是用等离子体进行薄膜刻蚀的技术。根据被刻蚀材料的不同，选择合适的气体，就可以更快地与材料进行反应，实现刻蚀去除的目的；还可以利用电场对等离子体进行引导和加速，使其具备一定能量，当其轰击被刻蚀物的表面时，会将被刻蚀物材料的原子击出，从而达到利用物理上的能量转移来实现刻蚀的目的。
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加工产品
公司专注于半导体和MEMS微纳加工，提供MEMS传感器芯片、微纳工艺设计与代工、光刻掩膜版图形设计与制作等服务，同时供应半导体设备、材料、耗材等一站式半导体工艺解决方案，满足科研院所、高校及半导体企业的需求。
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联系人: 喻女士
咨询热线：15539701757（微信同号）
邮箱: memsweina@163.com
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