CZ、FZ硅片（国产/进口）

掺杂类型：N,P 晶向：<100>，<110>，<111> 直径：2~12英寸 电阻率：常用各种范围均提供，0.001~10k欧姆.厘米 TTV、平整度、弯曲度、翘曲度、直径工差、厚度工差、晶向偏离度等参数严格 按照Semi标准执行，如有特殊要求，请来电咨询。

测试片

直径：2~12英寸 测试片是半导体产业中进行设备性能测试、工艺测试所使用的实验片，用来考察各个设备和各段工艺的状态和稳定性。该类片可作为陪片使用，或者作为对电学性能没有要求的正片使用，比如某些MEMS领域或某些材料、物理领域。

Dummy片

直径：2~12英寸 只能做有限的工艺测试。一般作为自动化机器传输测试使用：以及对衬底属性和电学性能没有要求的工艺中使用。比如镀膜测试实验。

FZ硅片（进口）

掺杂类型：N,P 直径2~8英寸 阻值：几十Ωcm-20kΩcm及以上 Fz硅片是指通过区熔法制作的硅片，将硅棒从籽晶一端区域熔化，将熔化区逐渐移动至硅棒另一端，利用杂质的分凝原理和蒸发特性，可以对硅棒进行提纯，并得到很均匀的杂质分布，这种技术通常用于制造高纯度的本征硅片。

氧化硅片（国产/进口）

直径1~12英寸 氧化层厚度：100A~20um 氧化硅片是指在硅片表面存在一层氧化层，氧化层的厚度根据用户需求而定。一般都有库存。 根据产品工艺要求可提供干湿干氧和纯干氧不同工艺氧化片。

锗片

直径2~8英寸 主要应用与红外窗口和半导体器件的制造。